鋁合金手板氧化流程和因素
鋁合金路由器手板
 一.硫酸陽極氧化工藝流程
鋁制件--機(jī)械拋光--除油--清洗--中和--清洗--化學(xué)拋光或電解拋光--清洗--陽極氧化--清洗--中和--清洗--染色--清洗--封閉--機(jī)械光亮--成品檢驗(yàn).
二.影響氧化膜質(zhì)量的諸因素
1)硫酸濃度氧化膜的成長(zhǎng)速度與電解液中硫酸濃度有密切關(guān)系.膜的增厚過程取決于膜的溶解和生長(zhǎng)速度比，通常隨著硫酸濃度的增高，氧化膜的溶解速度也增大;反之，濃度降低溶解速度也減小.因此，采用稀硫酸有利于膜的成長(zhǎng)
2)溫度電解液的溫度變化對(duì)氧化膜的影響
與硫酸濃度的變化的影響基本相同。溶液溫度升高，氧化膜的溶解速度升高，膜的生長(zhǎng)速度減少，氧化膜的厚度必然減少。同時(shí)，溫度的變化對(duì)氧化膜的厚度和耐磨性也會(huì)產(chǎn)生嚴(yán)重的影響。一般溫度控制在18--20℃時(shí)獲得的氧化膜多孔、吸附性能好、富有彈性、抗鹽霧能力較好，所以在夏季室溫高，要注意控制溫度。
3)電壓和陽極電流密度
在陽極氧化過程中，陽極電流密度和電壓有關(guān)鋁制件通電氧化時(shí)，開始很快在鋁制件表面生成一層薄而致密的氧化膜，隨之電阻增加電壓急劇升高，陽極電流密度逐漸減小.電壓繼續(xù)升高至一定值時(shí)，氧化膜因受電解液的溶解作用在較薄弱部位開始被電擊穿，促使電流通過，氧化過程繼續(xù)進(jìn)行.電解液中可能存在的雜質(zhì)是Cl-、F-, N03-和Al3+, Cu2+、Fe2+等離子.當(dāng)Cl-,F-、N03-等陰離子雜質(zhì)含量高時(shí)，氧化膜的孔隙率大大增加，氧化膜表面變得粗糙和疏松.這些雜質(zhì)在電解液中的允許含量為Cl- <0.05g/L, F- < 0.01 g/L.當(dāng)超過這極限值，制品表面會(huì)發(fā)生穿孔而報(bào)廢。這些陰離子雜質(zhì)來自配制電解液和清洗工序中的水源.因此必須嚴(yán)格控制水質(zhì)
4)、雜質(zhì)
合金中含銅、硅等元素時(shí)，隨著氧化過程的進(jìn)行，同樣由于在電解液中的陽極溶解作用，使合金元素Cu2+, Si2+不斷集聚.當(dāng)Cu2+含量達(dá)0.02g/L時(shí)，氧化膜上會(huì)出現(xiàn)暗色條紋或黑色斑點(diǎn)
5)、電解液混濁度
陽極氧化時(shí)，電解液的混濁度對(duì)氧化膜表面光亮度影響極大.通常，硫酸氧化膜是透明的，它的主要成分是A1203.多孔狀的氧化膜具有極大的吸附性能，利用這一特點(diǎn)將鋁和鋁合金表面進(jìn)行各種色彩圖案花紋的裝飾.若在電解液中含有各種不透明的固態(tài)混濁物，也被吸附填充到膜孔中去，會(huì)使氧化膜透明度下降，膜層的反光率受到阻擋，從而影響氧化膜的光亮度。混濁物來源于鋁制件前處理不良和清洗水質(zhì)不凈，或由于陰陽極反應(yīng)劇烈與溶液的對(duì)流作用使雜質(zhì)不易沉淀于缸底，被分散懸浮在電解液中，電解液透明度較差，甚至不透明并帶有一定的色澤.因此對(duì)那些外觀要求較高的鋁制品，在氧化過程中，必須對(duì)電解液進(jìn)行連續(xù)過濾。
三、封閉處理
由于陽極氧化膜的多孔結(jié)構(gòu)和強(qiáng)吸附性能，表面易被污染，尤其處在腐蝕性環(huán)境中，腐蝕介質(zhì)進(jìn)入孔內(nèi)易引起腐蝕.因此，經(jīng)陽極氧化后的皮膜不管著色與否，均需進(jìn)行封閉處理，以提高氧化膜的抗蝕、絕緣和耐磨等性能、以及減弱它對(duì)雜質(zhì)或油污的吸附.
四、鋁材成分差別及雜質(zhì)
含量的大小將直接影響著陽極氧化膜的外觀質(zhì)量.當(dāng)鋁材的合金成分一定時(shí)，影響外觀質(zhì)量的主要因素是有害雜質(zhì)，如銅、硅、鉻、鐵、鋅、錳等金屬元素.這些金屬元素在鋁材中的含量越少，經(jīng)陽極氧化后的光潔光亮度就越好，反之，經(jīng)陽極氧化后的光潔光亮度就越差.L04,L03高純鋁，其表面的光潔光亮度可達(dá)到鏡面狀態(tài)，且膜層無色透明.各種牌號(hào)的高純鋁及純鋁，其氧化膜的透明度和光潔光亮度由上往下隨著雜質(zhì)含量的增加而逐漸變差。
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